磁控溅射靶材 (可为电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材) 高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶Al,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,硅靶Si,锗靶Ge,铌靶Nb,钛钯Ti,铟靶In,银靶Ag,锡靶Sn,石墨靶C,钽靶Ta,钼靶Mo,金靶Au,铪靶Hf,锰靶Mn,锆靶Zr,镁靶Mg,锌靶Zn,铅靶Pb,铱靶Ir,钇靶Y,铈靶Ce,镧靶La,镱靶Yb,钆靶Gd,铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。 高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3,氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3,氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS,硫化钼靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2,二硼化钛靶TiB2,二硼化锆靶ZrB2,三氧化钨靶WO3,三氧化二铝靶Al2O3,五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN,氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化钛靶TiN,碳化硅靶SiC,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材. 备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。 高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶Ni-V,镍铬合金靶Ni-Cr,钛铝合金靶Ti-Al,硅铝合金靶Si-Al,铜铟合金靶Cu-In,铜镓合金靶Cu-Ga,铜铟镓合金靶Cu-In –Ga,铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se,不锈钢靶,锌铝合金靶Zn-Al,钨钛 W-Ti,铁钴 Fe-Co,白铜靶等高纯合金溅射靶材。 备注:CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。 |