工作原理： 本光子活性基除臭系统配置了有为光子自主研发的新型准分子真空紫外灯，其除臭机理为：（1）准分子真空紫外灯辐射的高能光子，足以打开自然界大多数分子键；光强是低压汞灯真空紫外的数千倍，能实现传统低压汞灯紫外光很难或根本不能实现的光化学反应，高效光解恶臭气体如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H₂S、VOC类，苯、甲苯、的分子键，使呈游离状态的污染物分子氧化生成无害或低害的小分子，如CO₂、H₂O等；（2）空气中氧和水分子吸收真空紫外，生成大量×O和×OH活性基团，这些瞬态存在的活性基团强烈氧化大分子臭气污染物，活性基团自身则在反应中不断被消耗，最终大分子臭气污染物被分解成无害或低害的小分子化合物以达到除臭目的。 应用范围： 食品加工厂、肉类加工厂、屠宰场、家禽饲料场、造纸厂、污水处理厂、垃圾转运站、粪便处理等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理；炼油厂、橡胶厂、皮革厂、印刷厂、化工厂、中西药厂、金属铸造厂、塑料再生厂、喷涂溶剂等有机物恶臭气体的脱臭净化处理。 独特优势： 1、自主发明专利产品，国际前沿光子处理技术； 2、高效去除臭气污染物，达标排放； 3、无需添加化学药品，无二次污染； 4、适用高浓度，大气量，各类恶臭气体处理； 5、活性基除臭，臭气可不必穿过系统； 6、除臭过程无需全空气交换； 7、设备体积小，占地空间小； 8、除臭效果稳定，操作维护简单； 9、设备风阻小，运行成本低，使用寿命长； 10、设备可手动和远程自动控制，运行稳定可靠； 11、24小时连续工作，自动故障报警，无需值守。光子活性基除臭系统主要技术指标:

设备型号	处理气量	风阻	功耗	设备供电
EW01K	1000	<50	300	220/50
EW03K	3000	<50	900	220/50
EW05K	5000	<50	1500	220/50
EW10K	10000	<50	3000	220/50
EW15K	15000	<50	4500	220/50
EW20K	20000	<50	6000	220/50
EW30K	30000	<50	9000	220/50
EW50K	50000	<50	15000	220/50
EW70K	70000	<50	20000	220/50

备注：上述技术指标如有更新，恕不另行通知。可根据客户特殊要求定制.