Cas号 | 【1303-86-2】 | MDL: | --MFCD00011315 | Beilstein | | EINECS: | --215-125-8 | 分子式 | B2O3 | 分子量 | 69.62 | 别名 | 氧化硼 ;三氧化二硼,硼酐,三氧化硼 | 分子结构式 | | 订货信息: | 货号 | ERP新货号 | 品名 | 规格() | 包装 | 单价 | Stock1 | Stock2 | 1096722 | B108404-50g | 氧化硼 | 99.99% metals basis | 50g | 178.00 | Yes | | 1096894 | B108404-10g | 氧化硼 | 99.99% metals basis | 10g | 67.00 | Yes | | 1110625 | B108406-500g | 氧化硼 | AR,98%,200目 | 500g | 69.00 | Yes | | 1110626 | B108405-25g | 氧化硼 | 99.999% metals basis | 25g | 297.00 | Yes | | 1125556 | B108405-5g | 氧化硼 | 99.999% metals basis | 5g | 89.00 | | | 1129768 | B108405-100g | 氧化硼 | 99.999% metals basis | 100g | 1065.00 | | | 1129769 | B108404-250g | 氧化硼 | 99.99% metals basis | 250g | 596.00 | Yes | | 1141853 | B108406-2.5kg | 氧化硼 | AR,98%,200目 | 2.5kg | 299.00 | Yes | | 1142832 | B118450-100g | 氧化硼 | 99.9% metals basis,200目 | 100g | 99.00 | Yes | | 1142833 | B118450-500g | 氧化硼 | 99.9% metals basis,200目 | 500g | 399.00 | Yes | |
| 备注: | | | 性状 | 性硬而脆,微有苦味,有吸湿性。溶于醇和甘油,缓慢溶于30份冷水或5份沸水。有刺激性。 | | | 备注: | 以上描述,仅作参考,并不表示您收到的产品,与此项描述完全相符,产品的出厂标准,请参见质量标准。 | 质量标准 | | | 项目Item分析纯 (AR)含量assay ≥98%(T)灼烧损失loss on ignition, 900 °C ≤3%氯chloride(Cl-): ≤20 ppm硫酸根sulfate (SO42-): ≤50 ppm阳离子cation traces by ICP Atomic emission Ag: ≤5 ppm Al: ≤50 ppm Ba: ≤5 ppm Bi: ≤5 ppm Ca: ≤10 ppm Cd: ≤5 ppm Co: ≤5 ppm Cr: ≤5 ppm Cu: ≤5 ppm Fe: ≤5 ppm K: ≤30 ppm Mg: ≤20 ppm Mn: ≤5 ppm Mo: ≤5 ppm Na: ≤200 ppm Ni: ≤5 ppm Pb: ≤30 ppm Sr: ≤5 ppm Tl: ≤10 ppm Zn: ≤5 ppm99.9% metalsbasis:外观Appearance White Powder orCrystalsICP: Confirms BoronComponent纯度Purity(Based on Trace Metals Impurities) ≥99.9%硼B(Titration by NAOH) 30.5 - 31.5 %总痕量金属杂质totalmetallic impurities ≤2000.0 ppm by Trace MetalsAnalysis99.99% metalsbasis:外观Appearance白色结晶或块状物ICP: Confirms BoronComponent纯度Purity ≥99.99% Based OnTrace Metals Analysis硼B(Titration by NAOH) 30.5 -31.5 %总痕量金属杂质total metallic impurities ≤200.0 ppm 30ppm by TraceMetals Analysis99.999% metalsbasis:外观Appearance白色结晶或块状物ICP: Confirms BoronComponent纯度Purity(Based on Trace Metals Impurities) ≥99.999%硼B(Titration by NAOH) 30.5 - 31.5 %总痕量金属杂质totalmetallic impurities ≤30.0 ppm 30ppm by Trace MetalsAnalysis | 贮存 | 密封干燥保存。 | 用途 | 冶金,硅酸盐分析中测定二氧化硅和碱。吹管分析。分解硅酸盐的助熔剂。 | 联合国编号 | | Risk: | R36/37/38- | Safety: | S26- | Hazard: | Xi- |
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